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化学气相沉积法制备超纳米金刚石薄膜王玉乾
所属：书刊快递 日期：2009-11-09 点击次数：994 次
[1] 王兵[1] 孟祥钦[1] 甘孔银[2]
[1]西南科技大学材料学院,绵阳621010 [2]中国工程物理研究院应用电子学研究所,绵阳621900
摘 要:采用微波等离子体化学气相沉积法，利用CH4、SiO2和Ar的混合气体在单晶硅片基底上制备出高质量的超纳米金刚石薄膜。表征结果显示，制备的薄膜致密而均匀，晶粒平均尺寸约7．47nm，表面粗糙度约15．72nm，并且其金刚石相的物相纯度相对较高，是质量优异的超纳米金刚石薄膜材料。
来源：《 材料导报 》2009年23卷14期
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