多孔硅材料的制备方法及由该方法制得的多孔硅材料
所属:专利 日期:2012-06-19 点击次数:859 次
申请号: CN201010568125.6
摘 要: 本发明提供一种多孔硅材料的制备方法,其包括如下步骤:提供一基材;在该基材的表面形成一预制层,该预制层中含有硅和金属M,所述金属M为钙、铝及镁中的一种或以上,该金属M的质量百分含量为10~50%;采用电化学蚀刻法去除所述预制层表层的金属M,使预制层的表层部分形成一多孔硅层,该电化学蚀刻法中所使用的电解液为盐酸、硫酸、甲酸、乙酸和草酸中的一种。所述多孔硅材料的制备方法绿色环保。本发明还提供一种上述方法制得的多孔硅材料。