氮化镓衬底材料的制造方法
所属:专利 日期:2011-10-24 点击次数:937 次
申请号: CN201110171022.0
摘 要: 本发明公开了一种氮化镓衬底材料的制造方法,包括:提供一衬底;在所述衬底上形成第一缓冲层;刻蚀所述第一缓冲层,使所述第一缓冲层表面形成多个凹槽;形成第二缓冲层,所述第二缓冲层覆盖所述第一缓冲层具有凹槽一侧的表面,使得所述凹槽内的第二缓冲层中形成有空洞;在所述第二缓冲层上形成氮化镓层;去除所述衬底、第一缓冲层和第二缓冲层。由于所述空洞的存在,从而降低了氮化镓层的位错密度,释放了氮化镓层中的应力,由此可形成缺陷较少的氮化镓层。