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氮化钨基三元纳米复合超硬薄膜材料及其制备方法
所属：专利 日期：2010-01-27 点击次数：674 次
申请号: CN200810022757.5
摘 要: 本发明公开了一种氮化钨基三元纳米复合超硬薄膜材料及其制备方法。材料为基底上覆有化学式为WxM1-xN的纳米复合超硬薄膜，化学式中的W为金属钨、M为金属置换物、N为氮、x的取值范围为0.06～0.72，薄膜由金属钨与金属M的氮化物固溶相和金属钨相构成，或者由氮化钨相、金属钨相和金属M相构成，其晶粒尺寸为4～30nm、膜的厚度为3～7μm；方法为，先将由金属钨与金属置换物构成的复合靶和基底分别置于磁控溅射设备真空室内的阴极上和样品台中，再待真空室的真空度≤1×10-3pa、基底温度达350～ 450℃后，使真空室处于氩氮混合气氛下，溅射60～120min，制得氮化钨基三元纳米复合超硬薄膜材料。它可广泛地用于机械制造、汽车与纺织工业、地质钻探、模具工业等领域。
粤公网安备 44010602001056号